特定貌似的内层设计者被认为是以柔性方式也影响细胞内适用暴力的;也方法,特别是缓解痕不可逆的中的成痕能压。在本深入研究中,我们装配了条状外侧尺寸为40 nm和70 nm的石墨烯层钨(Ta)内层。与未痕架化的块Ta比起,下端在石墨烯层Ta内层上的细胞内表现出更高的蛋白质表层和β1整联蛋白的传达,这将促进初始细胞内下端和扩散。因此,如预期的那样,在石墨烯层Ta内层上捕捉到到显著提升的成痕细胞内下端,生长和碱性磷酸酶活性。然而,随着条状外侧尺寸的降低,石墨烯层痕架对成痕的提升作用减弱。适用原子压显微镜通过下端压检查和细胞内和Ta内层之间的基本粒子。最近,条状外侧厚为40 nm的Ta内层很强最高的成痕作用。在细胞内下端的尖端和很强40nm厚的条状外侧的Ta内层之间捕捉到到的超强下端压促进细胞内与内层的强烈结合,因此细胞内下端和伸长较佳。我们将此归因于很强较较厚石墨烯级Ta内层的细胞内的比如说接触总长度的降低。降低的接触总长度允许提升细胞内内层基本粒子数值,从而缓解成痕细胞内下端。总之,该深入研究说明,较厚石墨烯层貌似在缓解助产士和整形外科植入物的临床性能方面显示出巨大的潜压。原始出处:An R, Fan P, et al., Nanolamellar Tantalum Interfaces in the Osteoblast Adhesion. Langmuir. 2019 Jan 23. doi: 10.1021/acs.langmuir.8b02796.
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